RDC : l’engagement de la Tanzanie pour une paix durable salué par le gouvernement

Kinshasa, 7 octobre 2026(ACP).- L’engagement de la Tanzanie en faveur d’une paix durable dans l’Est de la République démocratique du Congo a été salué par le ministre congolais de l’Intégration régionale, à l’issue d’un entretien mardi avec la Présidente tanzanienne, selon un communiqué parvenu mercredi à l’ACP.

 « Le ministre Anzuluni a salué l’engagement de la Tanzanie en faveur de la paix, de la stabilité et de l’intégration régionale, ainsi que son rôle dans les efforts visant à favoriser une paix durable dans l’Est de la République démocratique du Congo et dans la région des Grands Lacs », a-t-on lu dans le communiqué de la cellule de communication du ministère.

Selon la source, le ministre Floribert Anzuluni a présenté, au cours de cet échange, à la Cheffe de l’Etat tanzanienne, Samia Suluhu Hassan, les avancées importantes enregistrées par la RDC depuis la publication, en juillet dernier, du « Protocole de désarmement, de démobilisation et de cantonnement des Forces démocratiques de libération du Rwanda (FDLR) et organisations dites affiliées ».

Les échanges ont également porté sur les prochaines étapes du processus, à travers la feuille de route de mise en œuvre du Protocole, ainsi que sur les efforts à poursuivre jusqu’à l’aboutissement de cette importante démarche.

« Cette audience s’inscrit dans le cadre de la mission diplomatique conduite par le ministre de l’Intégration régionale, en qualité d’Envoyé spécial du Président de la République, Félix Tshisekedi, auprès des partenaires régionaux et internationaux de la RDC. Elle vise à les tenir informés des progrès réalisés par le Gouvernement congolais et à solliciter leur accompagnement jusqu’à la mise en œuvre complète du Protocole », a précisé le communiqué.

Le ministre de l’Intégration régionale de la RDC était  accompagné du Haut représentant du Chef de l’Etat,  Sumbu Sita,  lors de cet entretien  à Dar es Salaam avec  la Présidente de la République-Unie de Tanzanie. ACP/Kemi

Fil d'actualités

Sur le même sujet